中国は近年、半導体技術の開発に力を入れており、EUV露光装置の開発も進められている。路透社は最近、中国の半導体技術開発についての報道を発表したが、その内容は情報量が多く、細かい部分まで具体的に記述されている。しかし、距離をとって見ると、この報道は西洋のメディアがよく使う手法であることがわかる。事実は真実かもしれないが、結論は必ずしも正しくない。
路透社の報道を分析する
路透社の報道は、多くの「関係筋」や「〜に近いプロジェクトの人」の発言を引用し、具体的な年次、場所、装置の寸法などを記述している。これにより、読者はこの報道が真実であると感じることがある。しかし、実際には、直接証明された内容は限られている。例えば、林楠という人物について、路透社は彼がASMLの前光源技術主管であったことを強調し、中国企業がASMLの華人従業員を採用したことを記述している。これにより、読者は自然に「これらの人事異動は、逆向きエンジニアリングや技術窃盗に関係しているのではないか」という疑問を抱く。しかし、路透社の報道には、このような因果関係を直接証明する証拠はない。
技術開発の難点
技術的な観点から見ると、逆向きエンジニアリングは高度な複雑な工業システムにおいて、決定的な手段ではない。真正に重要なのは、長期にわたる実行中のデータの蓄積、エンジニアが無数の失敗の中で形成した調整経験、そして大量の隠れた知識である。これらはASMLが近二十年間、数十億ユーロを投入して徐々に構築してきた核心能力である。EUV露光装置は、光学、機械、材料、制御、ソフトウェアなど多くのサブシステムを含み、ナノレベルの精度でこれらのシステムを長期にわたって安定して協調させるシステムエンジニアリングである。機械の製造はただの開始であり、真正の難点は調整と調整にある。エンジニアは数千のパラメータを同時にに最適化し、予測できない問題に対処する必要があり、これらの能力は長期の実行経験からのみ得られる。
