📋 基本情報
日本語名
SMEE (上海微電子)
中国語名
上海微电子装备
英語名
SMEE
本社所在地
上海
設立年
2002年
従業員規模
約2,500人
カテゴリ
⚙️ 製造装置
公式サイト
https://www.smee.com.cn/
⚙️ 技術スペック
プロセス技術
90nm (量産), 28nm (検証中)
月産能力
年産数十台
🚀 主要製品
ArF液浸露光装置, i線/KrF露光装置, 検査装置
🧠 技術概要
中国唯一の露光装置(リソグラフィ)メーカー。ASMLに対する最大の弱点。90nm世代は量産済みだが、最先端の28nm対応機(SSA800-10W)は歩留まり向上に苦戦中。
🔧 開発情報
🔩 ハードウェア開発
光学レンズ系, ステージ制御
💻 ソフトウェア開発 / EDA
露光制御SW
⭐ 強み・特徴
国家プロジェクトの最重要支援対象。パッケージング用露光装置では高いシェアを持つ。
🇺🇸 米国制裁状況
Entity List (技術的ボトルネック)
💰 財務情報
評価額・時価総額
非上場
資金調達情報
上海電気グループ等が株主
📈 今後の展望
28nm液浸露光装置の完全実用化が、中国半導体自立の最後のピースとなる。
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