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SMEE (上海微電子)

上海微电子装备 SMEE
⚙️ 製造装置 🔥 注目企業 🇺🇸 米国制裁対象 🌐 公式サイト

中国唯一の露光装置(リソグラフィ)メーカー。ASMLに対する最大の弱点。90nm世代は量産済みだが、最先端の28nm対応機(SSA800-10W)は歩留まり向上に苦戦中。

90nm (量産), 28nm (検証中) プロセス技術
🏭 年産数十台 月産能力
📅 2002 設立
💰 非上場 評価額/時価総額

📋 基本情報

日本語名 SMEE (上海微電子)
中国語名 上海微电子装备
英語名 SMEE
本社所在地 上海
設立年 2002年
従業員規模 約2,500人
カテゴリ ⚙️ 製造装置
公式サイト https://www.smee.com.cn/

⚙️ 技術スペック

プロセス技術 90nm (量産), 28nm (検証中)
🏭 月産能力 年産数十台

🚀 主要製品

ArF液浸露光装置, i線/KrF露光装置, 検査装置

🧠 技術概要

中国唯一の露光装置(リソグラフィ)メーカー。ASMLに対する最大の弱点。90nm世代は量産済みだが、最先端の28nm対応機(SSA800-10W)は歩留まり向上に苦戦中。

🔧 開発情報

🔩 ハードウェア開発

光学レンズ系, ステージ制御

💻 ソフトウェア開発 / EDA

露光制御SW

⭐ 強み・特徴

国家プロジェクトの最重要支援対象。パッケージング用露光装置では高いシェアを持つ。

🇺🇸 米国制裁状況

⚠️ Entity List (技術的ボトルネック)

💰 財務情報

評価額・時価総額 非上場

資金調達情報

上海電気グループ等が株主

📈 今後の展望

28nm液浸露光装置の完全実用化が、中国半導体自立の最後のピースとなる。

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