🔬 中国半導体企業データベース

日本人が知らない中国半導体産業の全貌を公開。米国制裁下でも急速に進む「半導体国産化」の実態。 SMIC、YMTC、CXMT、NAURAなど製造・装置・材料メーカーを網羅。技術力、製造能力、将来予測を日本語で解説します。

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掲載企業・機関
7
カテゴリ
2025/12
最終更新

🔥 注目の半導体企業

中国半導体産業の中核を担う重要企業

🔥 注目
⚙️ 製造装置

SMEE (上海微電子)

上海微电子装备 / SMEE
📍 上海 📅 2002年設立 👥 約2,500人
🇺🇸 Entity List (技術的ボトルネック)
プロセス技術
90nm (量産), 28nm (検証中)
月産能力
年産数十台
主要製品
ArF液浸露光装置, i線/KrF露光装置, 検査装置
中国唯一の露光装置(リソグラフィ)メーカー。ASMLに対する最大の弱点。90nm世代は量産済みだが、最先端の28nm対応機(SSA800-10W)は歩留まり向上に苦戦中。
🔧 ハードウェア開発
光学レンズ系, ステージ制御
💻 ソフトウェア開発
露光制御SW
📈 今後の展望
28nm液浸露光装置の完全実用化が、中国半導体自立の最後のピースとなる。
製造装置 露光機 リソグラフィ アキレス腱
🔥 注目
⚙️ 製造装置

NAURA (北方華創)

北方华创科技集团 / NAURA Technology
📍 北京 📅 2001年設立 👥 約13,000人
🇺🇸 一部子会社がUnverified List
プロセス技術
28nm - 14nm対応
月産能力
年産数千台
主要製品
ICPエッチング, PVD, CVD, 酸化炉, 洗浄装置
「中国のApplied Materials」と呼ばれる総合製造装置メーカー。露光機以外ほぼ全ての工程の装置を手掛ける。28nmプロセスまではほぼ国産代替が可能。
🔧 ハードウェア開発
チャンバー設計, プラズマ源
💻 ソフトウェア開発
装置制御SW
📈 今後の展望
14nm以下の先端プロセス対応装置(マルチパターニング用)の開発と量産適用。
製造装置 エッチング PVD CVD
🔥 注目
⚙️ 製造装置

AMEC (中微半導体)

中微半导体设备 / AMEC
📍 上海 📅 2004年設立 👥 約3,500人
🇺🇸 CMC (中国軍事企業) 指定
プロセス技術
5nm対応 (エッチング)
月産能力
年産数百台
主要製品
CCP/ICPエッチング装置, MOCVD
エッチング装置(削る工程)に特化し、世界トップレベルの技術を持つ。TSMCの5nmラインでも採用実績あり。創業者ジェラルド・インはApplied Materials出身の伝説的技術者。
🔧 ハードウェア開発
プラズマ反応炉
💻 ソフトウェア開発
プロセスシミュレーション
📈 今後の展望
エッチング以外の成膜装置への進出と、完全なサプライチェーンの非米国化。
製造装置 エッチング TSMC採用 世界レベル

📋 中国半導体企業一覧

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⚙️ 製造装置

Piotech (拓荊科技)

拓荆科技 / Piotech
📍 瀋陽 📅 2010年設立
プロセス技術
14nm対応
月産能力
年産数百台
主要製品
PECVD, ALD, SACVD (薄膜形成装置)
薄膜形成(CVD/ALD)に特化した装置メーカー。ナノレベルの絶縁膜や金属膜を形成する装置で、AMECやNAURAと並ぶ重要企業。...
製造装置 CVD ALD 薄膜
⚙️ 製造装置

ACM Research (盛美半導体)

盛美上海 / ACM Research Shanghai
📍 上海 📅 2005年設立
プロセス技術
先端ノード対応
月産能力
年産数百台
主要製品
SAPS/TEBO洗浄装置, 銅メッキ装置
NASDAQ上場の米国親会社を持つが、実体は上海。独自の洗浄技術(SAPS/TEBO)で、微細パターンの倒壊を防ぎつつ洗浄が可能。SK Hynix等にも納入。...
製造装置 洗浄 メッキ NASDAQ上場

最終更新: 2025年12月20日 | データは定期的に更新されます

※ 評価額・時価総額・生産能力は変動する可能性があります