📋 基本情報
日本語名
Piotech (拓荊科技)
中国語名
拓荆科技
英語名
Piotech
本社所在地
瀋陽
設立年
2010年
従業員規模
約1,000人
カテゴリ
⚙️ 製造装置
⚙️ 技術スペック
プロセス技術
14nm対応
月産能力
年産数百台
🚀 主要製品
PECVD, ALD, SACVD (薄膜形成装置)
🧠 技術概要
薄膜形成(CVD/ALD)に特化した装置メーカー。ナノレベルの絶縁膜や金属膜を形成する装置で、AMECやNAURAと並ぶ重要企業。
🔧 開発情報
🔩 ハードウェア開発
反応室設計
💻 ソフトウェア開発 / EDA
プロセス制御SW
⭐ 強み・特徴
国内で不足していた薄膜装置のギャップを埋める存在。3D NAND向けのALD装置に強み。
🇺🇸 米国制裁状況
なし
💰 財務情報
評価額・時価総額
時価総額 約400億元
資金調達情報
上海証券取引所: 688072
📈 今後の展望
より微細なプロセス(High-k膜など)に対応したALD装置のシェア拡大。
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